Department
Departement of ELECTRONICS
Research Interests
Specialized in Departement of ELECTRONICS. Focused on academic and scientific development.
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University of M'Sila, Algeria
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Recent Publications
OES Diagnostics of HMDSO/O2/CF4 Microwave Plasma for SiOCxFy Films Deposition
Citation
M. CHABANE Rayene, (2011), "OES Diagnostics of HMDSO/O2/CF4 Microwave Plasma for SiOCxFy Films Deposition", [national] ADVANCED MATERIALS , Wiley-Blackwell
Characterization of SiOF thin films deposited by PECVD from Hexamethyldisiloxane in mixture with oxygen and CF4
Citation
M. CHABANE Rayene, (2009), "Characterization of SiOF thin films deposited by PECVD from Hexamethyldisiloxane in mixture with oxygen and CF4", [national] Materials Science Forum , Trans Tech Publications
Influences des Paramètres de la Décharge Plasma sur les Propriétés Electriques de Films Minces de Types SiOx Déposés à Partir du Mélange HMDSO/O2
Citation
M. CHABANE Rayene, (2007), "Influences des Paramètres de la Décharge Plasma sur les Propriétés Electriques de Films Minces de Types SiOx Déposés à Partir du Mélange HMDSO/O2", [international] Physiques Applications , Tunisie
Effet de la polarisation du substrat sur les propriétés diélectriques de films de types SiOx déposés par plasma dans un réacteur RCER
Citation
M. CHABANE Rayene, (2005), "Effet de la polarisation du substrat sur les propriétés diélectriques de films de types SiOx déposés par plasma dans un réacteur RCER", [international] 1st International Symposium on Electromagnetism, Satellites and Cryptography ISESC'05 , Jijel